오버레이 계측 시스템(Overlay Metrology) 문의하기

오버레이 계측 시스템(Overlay Metrology)

다층 박막 구조의 정밀 정렬 상태를 나노 단위로 계측하여 노광 공정의 수율을 최적화합니다.
현장의 선단 공정 노드와 측정 속도에 최적화된 고정밀 광학 계측 솔루션을 제안합니다.

1. 고객사 정보 (Contact Info)

회사명 *

담당자명 *

연락처 *

이메일 *

2. 계측 방식 및 기술 사양 (Technical Specs)

계측 기술 타입 선택 *

IBO (Image Based Overlay)
전통적인 이미지 기반 측정, 높은 유연성과 직관성 DBO (Diffraction Based Overlay)
회절 격자 기반 측정, 미세 공정에서의 높은 정밀도 및 반복성

웨이퍼 규격 * 8인치 (200mm) 12인치 (300mm)

요구 측정 정밀도 (P, nm) *

목표 처리량 (WPH) *

사용 광원 파장 범위 가시광선 (Visible) DUV ~ NIR (Broadband) 멀티 파장 선택 가능 모델

3. 시스템 옵션 및 보정 기능 (Options)

고급 분석 및 연동 옵션

TIS 자동 보정 시스템
장비 기인 오차 실시간 보정으로 데이터 정확도 향상 APC (Advanced Process Control)
노광 장비로 보정 데이터 피드백 연동 FOUP / EFEM 통합 로더
무진 환경 자동 웨이퍼 핸들링 AI 기반 측정 최적화
복잡한 레이어 구조에서의 알고리즘 자동 선정

기타 문의사항 (타겟 마크 디자인 정보 및 특정 노광 장비 연동 여부 등)

※ 타겟 마크 사양(Box-in-Box, Frame-in-Frame 등)에 따른 최적의 샘플링 레시피를 제안해 드립니다.